单晶xrd检测半导体xrd检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要---半导体产业发展的应用技术研究,---重大技术应用的基础研究,单晶xrd检测服务,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
但是,kβ滤片不能去除样品产生的荧光 x 射线对衍射图的影响。荧光 x 射线的强度将叠加在衍射图的背景上,造成---的背景,不利于衍射图的分析。因此,对于 x 射线衍射仪 来讲,如果设备没有配置弯晶石墨单色器仅使用 kβ滤片,选波长(或者说选靶)主要考虑的就是样品中的主要组成元素不会受激发而产生---的荧光x 射线。如果分析样品中的元素的原子序数比靶的元素的原子序数小1至4,就会出现强的荧光散射。
例如使用 fe 靶分析主要成分元素为 fe、co、ni 的样品是合适的,而不适合分析含有 mn cr v ti 的物质;cu 靶不适合于分析有 cr,mn,fe,co,ni 这些元素的物质。所以,对于 cr 是主要组成元 素的样品,单晶xrd检测实验室,只能选择 cr 靶 x 射线管。
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什么是物相衍射强度?
强度表示为每秒的计数(count per second, cps),一个物相总是有多个衍射峰,云南单晶xrd检测,而且由于衍射角不同、多重因子不同、结构因子不同等因素,一个物相的不同衍射峰的高度是不相同的,当然,衍射峰的面积也会不同。
一般说一个物相的衍射强度不是指在扫描范围(2θ)内全部衍射峰的强度,而是指其高的那个衍射峰的高度或者面积。当用高度来表示衍射强度时,可以称为线强度,而用面积来表示强度时称为积分强度。当然,没有哪一本书上这么死地规定一个物相的衍射强度。因此,也没有一本书上象这样详细地来说明一个物相的衍射强度到底是什么。
上面的说法仅是常用的方法,也是rir值定义的方法。那么,能不能有别的方法来定义一个物相的衍射强度呢?当然可以,比如,单晶xrd检测报告,你想使用某个物相的次强线的高度来作为该物相的衍射强度也未尝不可。但是,有一点你要明白。定量分析的计算式中的rir值的定义也要跟着变,不能再使用强峰的峰高来与刚玉的强线峰高之比了。能不能用某一个扫描范围内一个物相全部或部分衍射峰的高度(或面积)之和来表示这个物相的衍射强度呢?当然可以,不过,同样地,rir值的定义也要跟着变。
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x-射线照射到超细粉末颗粒(粒径小于几百埃,不管其是晶体还是非晶体)也会发生相干散射现象,也发生在低角度区。但是由微细颗粒产生的相干散射图的特征与上述的由---晶面间距或薄膜产生的小角 x 射线衍射图的特征完全不同。小角衍射,一般应用于测定---晶面间距或薄膜厚度以及薄膜的微观周期结构、周期排列的孔分布等问题;小角散射则是应用于测定超细粉体或疏松多孔材料孔分布的有关性质 。
x-射线照射到样品上还会发生非相干散射,其强度分别也主要集中在在低角度范围,康普顿散射就属于此类,其结果是增加背景。
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